Unimill 离子减薄仪--用于 TEM/XTEM 样品制备的全自动离子束减薄系统

Unimill 离子减薄仪--用于 TEM/XTEM 样品制备的全自动离子束减薄系统

Technoorg Linda UniMill 离子减薄仪专为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM/XTEM 样品而设计。 Unimill 既可以使用全球dujia的超高能离子枪进行快速研磨，也可以使用专用的低能离子枪进行Zui终抛光和精修处理。

产品特色：

·可直接使用同一台仪器进行快速减薄和抛光/精细处理

·支持全自动的离子枪参数设置和手动调节离子束研磨参数

·具备Zui广的离子枪能量范围： 低能离子枪与超高能离子枪结合，能量范围可达 100 eV ~ 16 keV

·具备极高的切削率

·可选择配备 LN2 液氮制冷

离子枪优势

UniMill 包括两支独立控制的离子枪：一支高能或超高能离子枪和一支低能离子枪。

高能和超高能离子枪

Unimill 的高能和超高能离子枪提供了Zui高的研磨率。高达 16 keV 的离子枪专为要求极低研磨速率的 TEM 样品制备而设计。

低能离子枪

离子枪的特殊结构可在整个制备过程中形成高束流密度。能量极低的离子束保证了表面损伤和离子束诱导非晶化效应的Zui小化。

离子枪控制

所有离子枪参数，如加速电压和离子束电流在内均由智能反馈回路控制，但始终可以在样品制备过程中进行手动调节。离子枪参数的初始值支持自动设置或手动调节，同时可在电脑上连续监控和显示。

性能参数

离子枪

超高能离子枪（可选）：

• 离子束能量：高达16 keV，连续可调

• 离子束电流：高达 500 μA

• 离子束直径：1.6 - 1.8 mm (FWHM)

高能离子枪（标配）：

• 离子束能量：高达10 keV，连续可调

• 离子束电流：高达 300 μA

• 离子束直径：0.9 - 1.3 mm (FWHM)

低能离子枪：

• 离子束能量：100 eV - 2 keV，连续可调

• 离子束电流：7 - 80 μA

• 离子束直径：1.5 - 2.2 mm (FWHM)

样品台

• 切削角度：0°- 40°，每 0.1° 连续可调

• 电脑控制的平面内样品旋转和移动：

• 360° 旋转

• 从±10° 到±120° 移动，每 10° 连续可调

• 可兼容的 TEM 样品厚度范围 (30 - 200 μm)

成像系统

• 用于全视觉控制和切削监控/终止的 CMOS 相机图像

• 高分辨率彩色 CMOS 相机

• 50 - 400 倍放大范围的手动变焦视频镜头

电脑控制

• 内置工业级计算机

• 简单便捷的图形界面和图像分析模块

• 支持用户手动调节离子枪参数，包括气流调节

• 用于自动设置机械和切削参数的预编程方案（可以

手动调整）

• 自动样品加载

• 自动终止：图像分析模块支持的切削过程的光学终止

（ 通过检测薄区穿孔或监测表面形貌）

供气系统

• 99.999% 纯氩气，juedui压力为 1.3 - 1.7 bar

• 带有电子出口压力监测功能的惰性气体专用压力调节器

•工作气体流量高精准控制

真空系统

• Pfeiffer 真空系统配备无油隔膜和涡轮分子泵，配备紧凑

的全范围 Pirani/Penning 真空计

电源要求

• 100 - 120 V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz

成像案例